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离子溅射仪ETD-2000
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ETD-2000 型离子溅射仪外观沉稳大气,采用真空自动控制和真空保护电路,使操作和应用更加安全可靠。为扩大应用领域,可同时手动调整溅射仪的电离电流或手动调整其真空微调针阀,改变电离室的压强,获得**的喷镀效果。独特的真空橡胶压边密封结构,保证长期使用不会使钟罩边缘出现毛边而影响真空室中的真空度,陶瓷密封高压插头经久耐用。

工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体,获得**镀膜效果。

ETD-2000型是一款*常用的离子溅射仪,是一切溅射仪的基础。是以金属靶材和样品台分别作为阴阳两极,在真空状态下产生辉光放电,使金原子与残存的气体不断碰撞而沉积成薄膜。可以使用Au,Pt,Cr、Al、Cu等靶材。

具有成膜均匀,操作简单,所需时间短,过程可控等优点。

配有高位定性真空泵

参数:

主机规格:305mm×365mm×325mm(W×D×H)

靶(上部电极):金:50mm×0.1mm(D×H)

靶材:Au(标配),也可根据实际情况配备银靶、铂靶等

样品室:硼硅酸盐玻璃160mm×120mm(D×H)

靶材尺寸:Ф50mm

真空指示表: **真空度:≤ 4X10-2 mbar

离子电流表: **电流:50mA

定时器: *长时间:3600s

微型真空气阀:可连接φ3mm软管

可通入气体: 多种

**电压: -1600 DCV

输入电压:220V(可做110V),50HZ

机械泵:标准配置2L/S(国产VRD-8)

特点:

1、简单、经济、可靠。

2、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小。

4、真空保护可避免真空过低造成设备短路。

5、同时可以通过更换不同的靶材(金、铂、铱、银、铜等),以达到更细颗粒的涂层。

6、通过通入不同的惰性气体以达到更纯净的涂层。

7、数字计时器定时自由方便。

8、计时器可随时停止,观察样品涂层,并可继续工作。

9、可调节样品台,适用于多种样品。

需要镀膜的样品

1、电子束敏感的样品:

主要包括生物样品,塑料样品等。S EM中的电子束具有较高能量,在与样品的相互作用过程中,它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料,那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下,用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用,防止此类损伤;

2、非导电的样品:

由于样品不导电,其表 面带有“电子陷阱”, 这种表面上的电子积累 被称为“充电”。为了 消除荷电效应,可在样 品表面镀一层金属导电 层,镀层作为一个导电 通道,将充电电子从材 料表面转移走,消除荷 电效应。在扫描电镜成 像时,溅射材料增加信 噪比,从而获得更好的成像质量。

3、新材料:非导电材料和半导体材料

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